EUV-Lithographie: Deutscher Zukunftspreis

Veröffentlicht am

08. Dez. 2020

Veröffentlicht von

Jetzt teilen:

Die optische Lithographie gilt seit über 40 Jahren als Schlüsseltechnologie für die Fertigung von Mikrochips. Die neue Entwicklung hin zur EUV-Lithographie erweiterte die Grenzen des klassischen Verfahrens um ein Vielfaches. Das Fraunhofer Institut für Werkstoff- und Strahltechnik IWS trug mit dazu bei, dass nun die Fraunhofer-Gesellschaft, ZEISS und TRUMPF für den Zukunftspreis 2020 nominiert wurden.

Das Projekt »EUV-Lithographie – Neues Licht für das digitale Zeitalter«, beschäftigt sich mit der Herstellungsmethode der neuesten EUV-Mikrochip-Generation. Auf dem Weg zu diesem Erfolg setzte das Fraunhofer IWS zusammen mit Fraunhofer IOF und Fraunhofer ILT in den vergangenen Jahrzehnten einige Meilensteine.

Pressemitteilung