Wissenschaftliche Mitarbeiterin/ wissenschaftlicher Mitarbeiter Lithographie

Type
Full-Time


Published by

Share now:

Description

In Kooperation mit der Abteilung „Lithografie und Strukturübertragung“ des Zentrums für Mikrotechnologien der Technischen Universität Chemnitz stellt dies die Basis für alle halbleitertechnologischen Strukturierungsprozesse in Chemnitz bereit. Im Vordergrund stehen Forschungs- und Entwicklungsarbeiten für Technologien der Mikroelektronik und Mikrosystemtechnik. In einem Klasse 4 Reinraum (ISO 14644-1) steht eine vollständige Prozesslinie für die Maskenherstellung und die Lithografie zur Verfügung. In weiteren Klasse 5 Reinräumen sind Trockenätzanlagen und das notwendige Equipment für Nassätzprozesse vorhanden. Es besteht eine enge Zusammenarbeit mit dem Lehrstuhl Professur Smart Systems Integration und dem Zentrum für Mikrotechnologien der Technischen Universität Chemnitz.

Was Sie mitbringen:

Für dieses Themenfeld suchen wir eine*n motivierte*n wissenschaftliche* Mitarbeiter*in mit fundierten Kenntnissen der theoretischen Grundlagen halbleitertechnologischer Strukturierungsprozesse. Ideal wären zudem praktische Erfahrungen bei der Bearbeitung mikroelektronischer und/oder mikromechanischer Prozesse und Technologien sowie mit physikalischer Messtechnik.

Für die ausgeschriebene Position ist ein überdurchschnittlich abgeschlossenes wissenschaftliches Hochschulstudium erforderlich. Absolvent*innen der Studiengänge Mikro-/Nanotechnologie oder der Mikrotechnik sind uns ebenso willkommen wie Elektrotechniker*innen, Physiker*innen oder Absolvent*innen anderer vergleichbarer Studiengänge.

Ein hohes persönliches Engagement für unsere spannenden Themen, eine selbstständige Arbeitsweise, Kommunikations- und Teamfähigkeit sowie die Bereitschaft zu Dienstreisen setzen wir voraus. Erforderlich sind weiterhin sehr gute Deutsch- und Englischkenntnisse in Wort und Schrift sowie die Fähigkeit, Ergebnisse gegenüber unseren Kunden und Forschungspartnern selbstständig zu präsentieren.

Was Sie erwarten können:

Ihre Arbeit findet größtenteils im Reinraum statt. Hier stehen Ihnen verschiedenste moderne Geräte und Anlagen zur Verfügung, die in der Lithografie Anwendung finden. Ihr wesentlicher Betätigungspunkt ist die Entwicklung von Technologien im Bereich der Fotolithografie. Sie koordinieren die Überwachung verschiedener Prozessabläufe und analysieren und optimieren diese vor dem Hintergrund der gestellten wissenschaftlichen Aufgabenstellung. Ihr Aufgabengebiet gestaltet sich vielfältig und abwechslungsreich.

Der Fokus liegt auf folgenden Punkten:

  • Wissenschaftlicher Anlagen- und Prozessverantwortlicher: Experte für Versuchsreihen an den Anlagen und Prozessen der Lithographie
  • Erstellung der Versuchsanordnung, Koordination und wissenschaftliche Analyse der erzielten Ergebnisse im Hinblick auf die zu untersuchende Fragestellung
  • Wissenschaftliche Koordination der Versuche an verschiedenen Geräten und Anlagen für die Lithografie, Projektionslithografie: Belacker/Entwickler, Kontroll- und Messtechnik (Lichtmikroskopie, Profilometer, Ellipsometer, Rasterelektronenmikroskop, CD-SEM)
  • Erstellung von Messkonzepten und Datenbanken zur Charakterisierung von hergestellten Strukturen
  • Zusammenarbeit mit Projektpartnern und Kunden
  • Durchführung von Wartungs- und Instandhaltungsarbeiten

Die Stelle ist zunächst auf ein Jahr befristet. Wir streben jedoch grundsätzlich eine darüber hinausgehende Zusammenarbeit an. Die wöchentliche Arbeitszeit beträgt 39 Stunden.

Kennziffer: ENAS-2021-14

Bewerbungsfrist: 31.05.2021

Bitte übermitteln Sie Ihre Bewerbungsunterlagen unter Angabe der Referenz: ENAS-2021-14 ausschließlich über das Bewerberportal.

Stellenausschreibung