Abschlussarbeit zum Thema "Plasmavorreinigung von Si-Wafern mittels Wasserstoff-Radikalquelle"

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Werkstudent


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Beschreibung

Als eines von 72 Instituten der Fraunhofer-Gesellschaft, Europas größter Organisation für angewandte Forschung, widmet sich das Fraunhofer-Institut für Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP in Dresden der Entwicklung von Technologien und Prozessen zur Oberflächenveredelung und für die Organische Elektronik.
Unsere Kerntechnologien, die Sputtertechnologie, die plasmaaktivierte Hochratebedampfung, die Hochrate-PECVD sowie die Elektronenstrahltechnologie nutzen wir zur Lösung vielfältiger, industrieller, Problemstellungen der Oberflächentechnologie.

Der Bereich Präzisionsbeschichtung entwickelt Prozesse und Technologien, um elektrische, optische, akustische oder magnetisch wirksame Schichten und Schichtsysteme mit Vakuumverfahren präzise und homogen auf große Flächen aufzubringen. So werden die Grundlagen für neue Produkte in den Branchen Optik, Elektronik und Sensorik, Photovoltaik, Speichermedien sowie Biomedizintechnik gelegt.

Was Sie mitbringen

Die Ausschreibung richtet sich an Studierende technischer und naturwissenschaftlicher Fachrichtungen, insbesondere der Physik, der Elektrotechnik, der Chemie oder den Materialwissenschaften und verwandter Fachrichtungen.

Der Umfang der Arbeit richtet sich nach der jeweiligen Prüfungsordnung der Hochschule. Die Arbeit kann sowohl von Universitäts- als auch von Fachhochschulstudenten durchgeführt werden.

Für Bachelorstudenten ist die Ausschreibung aufgrund einer längeren Einarbeitungszeit nur dann geeignet, wenn die Bachelorarbeit mit einem Forschungspraktikum verbunden wird und so das Thema über einen zusammenhängenden Zeitraum von mindestens 6 Monaten bearbeitet werden kann.

Sie sind motiviert, kreativ, arbeiten selbständig in analytischer und strukturierter Arbeitsweise! Sie verfügen über gute MS-Office-Kenntnisse, sehr gute Deutschkenntnisse, gute Englischkenntnisse in Wort und Schrift und haben vor allem Spaß am wissenschaftlichen und experimentellen Arbeiten

Dann bewerben Sie sich am besten noch heute online.

Was Sie erwarten können

Voraussetzung für ein epitaktisches (einkristallines) Schichtwachstum auf Silizium-Wafern ist eine atomar saubere und ungestörte Silizium-Oberfläche. Herkömmlich kann diese mittels Wasserstoff-Behandlung bei sehr hohen Temperaturen erzeugt werden.

Ziel der Abschlussarbeit ist es, zu untersuchen, inwiefern durch Nutzung einer Wasserstoff-Radikalquelle (Remote-Plasmaquelle) eine solche Oberfläche bei deutlich geringeren Wafer-Temperaturen erzeugt werden kann.
Teilaufgaben der Arbeit sind die Inbetriebnahme der Plasmaquelle an einer Vakuumanlage des FEP und die Charakterisierung des Vorbehandlungsergebnisses anhand der Abscheidung von Silizium-Schichten auf die vorbehandelten Si-Wafer.

Die Fraunhofer-Gesellschaft legt Wert auf die berufliche Gleichstellung von Frauen und Männern.

Fraunhofer ist die größte Organisation für anwendungsorientierte Forschung in Europa. Unsere Forschungsfelder richten sich nach den Bedürfnissen der Menschen: Gesundheit, Sicherheit, Kommunikation, Mobilität, Energie und Umwelt. Wir sind kreativ, wir gestalten Technik, wir entwerfen Produkte, wir verbessern Verfahren, wir eröffnen neue Wege.

Dr. Hagen Bartzsch
Tel. 0351 / 2586 390

Fraunhofer Institut für
Organische Elektronik, Elektronenstrahl- und Plasmatechnik
Frau Anke Gottlöber
Winterbergstraße 28
01277 Dresden

Bewerbungen bitte ausschließlich online.

Kennziffer: FEP-2018-33